二手 ULVAC CERAUS ZI 1000 #9378914 待售
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ID: 9378914
晶圆大小: 8"
优质的: 1998
Sputtering system, 8"
CIM: SEMI Auto to CTC
Sputter Zi (LTS with sputter etcher)
PF
(6) Chambers
Transfer, LLA And LLB Chamber
P1 - ICP Etcher
P2 - Degas
P3 - ICP Etcher
P4 - LTS (Ti/TiN)
P5 - LTS (Ti/TiN)
P6 - LTS (Ti/TiN)
Loadlocks:
LLA VCE4, (30) Metal stocker slots
LLB VCE4, (30) Metal stocker slots
Hardware configuration:
Chamber 1: ICP
Chamber 2: Degas
Chamber 3: ICP
Chamber 4: LTS
Chamber 5: LTS
Chamber 6: LTS
In-aligner
In-cooler
Mainframe: BROOKS M800
Wafer mapping: Standard
Transfer MAG 7.1 Robot
Transfer armset MAG 6
3-Axis Bi-symmetric dual frogleg
ULVAC C30ZR Helium compressor
RISSHI CS-1700H Chiller
Handler System
Cables
Metal cover
Power supply rack
Computer with rack
Pump
Front panel
Raise platform & accessories
Process:
Chamber 1: Etch
Chamber 2: Degas
Chamber 3: Etch
Chamber 4: Ti/TiN dep
Chamber 5: Ti/TiN dep
Chamber 6: Ti/TiN dep
Wafer notch alignment
Cooler
Generators:
Chamber 1: DC 1, DC 2, ULVAC RFS05C, RF, AC Bias
Chamber 2: DC 1, DC 2, RF, AC Bias
Chamber 3: DC 1, DC 2, RF ULVAC RFS05C, AC Bias
Chamber 4: DC 1 KYOSAN, DC 2, RF, AC Bias, HPK15Zi
Chamber 5: DC 1 KYOSAN, DC 2, RF, AC Bias, HPK15Zi
Chamber 6: DC 1 KYOSAN, DC 2, RF, AC Bias, HPK15Zi
Turbo pumps:
SHIMADZU 303LM
SHIMADZU 303LM
SHIMADZU 403LM
SHIMADZU 1003LM
SHIMADZU 1003LM
SHIMADZU 1003LM
SHIMADZU 1003LM
SHIMADZU 1003LM
1998 vintage.
ULVAC CERAUS ZI 1000是由真空涂层设备领先的高科技制造商ULVAC（Ultra-Low Vacuum Apparatus Corporation）制造的溅射设备。该系统使用陶瓷靶和电离惰性气体如Ar或He，用一层所需材料涂覆多种材料。目标被放置在真空室中，离子被强大的调制电压源加速向目标。加速离子与目标的碰撞产生了纳米大小粒子的大气，使涂层材料以精确的方式附着在观察到的基板上。ULVAC CERAUS ZI-1000提供独特的性能功能,使其在其他溅射系统中脱颖而出。其先进的温度控制单元允许精确的温度控制和稳定的操作，即使在长时间的操作。这有助于确保涂层在整个过程中保持一致。它还具有预燃机，减少启动时间和提高效率。该工具旨在提供涂层材料的均匀沉积，在整个基板上具有高均匀性和优异的颗粒密度。CERAUS ZI 1000具有集成真空资产，允许低压沉积。该型号最大真空度为1 x 10-3 Torr，使涂层材料能以更高效的直线向基板行进，从而对涂层厚度进行更大的控制。它还具有水和安全联锁以及激光障碍物，以确保安全。CERAUS ZI-1000能够在所有类型的反应性溅射和热蒸发应用中提供优异的效果。它非常适合在从聚合物到高度敏感的半导体的各种基板上实现精确涂层。它以其可靠的制造和卓越的性能而闻名，非常适合广泛的工业应用。
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