二手 ULVAC Ceraus ZX-1000 #9078343 待售

ULVAC Ceraus ZX-1000溅射设备用于物理气相沉积、爆炸性蒸发和等离子体增强化学气相沉积等应用。它的大面积、三目标设计允许高速溅射，以实现卓越的膜均匀性，并允许沉积在大基板尺寸。这是一个完全自动化的过程，是适应挑战厚序列。ULVAC CERAUS ZX 1000溅射系统包括一个超高真空室，能够达到低至1x10-6 Pa的压力。这种高真空水平是确保高质量沉积所必需的。腔室装有低发射、线性感应磁控管和三重目标。线性感应磁控管允许在低于其他设备的温度下沉积，同时还能在大面积上保持均匀沉积。三重目标配置允许三个目标中的每一个都有不同的沉积速率,从而提供卓越的均匀性。该ZX-1000提供了极好的沉积均匀性，即使具有挑战性的材料和结构。该单元还可以加工尺寸小至100 mm x 150 mm的柔性基板，以及最大至1000 mm ²的较大基板。ZX-1000的一个独特特点是其高度可配置的气体输送机，允许不同的沉积过程，如等离子体增强化学气相沉积和反应性溅射。该工具还允许广泛的工艺参数，如目标偏置的控制、底物温度、阴极电压、底物偏置和除气。Ceraus ZX-1000 Sputtering Asset提供卓越的质量和均匀性,能够执行复杂的沉积过程,非常适合需要精确沉积薄膜和结构的应用。其先进的特性使其成为大批量生产薄膜光学涂层、薄膜太阳能电池、激光二极管、传感器等设备的强大工具。