二手 ULVAC Ceraus ZX-1000 #9274945 待售

製造商
ULVAC
模型
Ceraus ZX-1000
ID: 9274945
晶圆大小: 8"
优质的: 1996
Sputtering systems, 8" Turbo pump: TMP 202LM Reflow Degas Ti/TiN LTS Ti Al Cryo pump: Cryo-T8PN With (4) RS5 Refrigerators 1996 vintage.
ULVAC Ceraus ZX-1000是一种溅射设备,设计用于薄膜沉积技术的广泛应用。利用高频射频(RF)反应性溅射产生厚度均匀、密度高、应力低、电学和光学性能优异的薄膜。利用这一技术,薄膜可以应用于任何形状或大小的金属、玻璃或陶瓷基板,提供了量身定制薄膜性能并最终打造复杂结构的能力。ULVAC CERAUS ZX 1000具有模块化设计,可以将其配置为满足给定应用程序的特定要求。它有两个会议厅;一个工艺室和预处理室。在工艺室中,射频溅射用于在受控环境下将薄膜沉积在基板上。该室采用基座频率溅射系统,可实现高沉积速率和工艺参数的精确控制。在预处理室中,可以实现脱气、辉光放电、轻O2蚀刻等多种膜制备技术。该单元配备了一个先进的软件包,旨在对整个沉积过程进行高效和精确的控制。它具有多个高级功能,包括真空清洁周期、自动恢复保护、在预设条件下停止以及数据日志记录。该机还设计为用户友好,具有直观和可定制的操作。射频溅射工艺可用于沉积金属、氧化物、氮化物、合金膜等多种薄膜材料。这些薄膜可以以几纳米(nm)到几毫米的厚度沉积,可用于半导体、平板显示器、光学元件和医疗设备等应用。Ceraus ZX-1000还具有涂抹防反射涂层、防护涂层和装饰性氧化膜的能力。CERAUS ZX 1000通过其高度先进的特性和功能,是一种高度通用和有效的溅射工具。其模块化的设计和精密的软件使得任何特定的应用环境下的定制变得容易,其坚固的结构确保了质量的薄膜沉积和可靠的操作在未来几年。
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