二手 ULVAC Cryo-T12CBH #9380745 待售

ULVAC Cryo-T12CBH溅射设备是一种尖端溅射工具，能够实现金属薄膜的高速率沉积。该系统为成本、功率和工艺优化而设计，真空范围为1x10-7 ~ 3x10-3 Pa，还能生产出均匀性极佳、平整度完美的超高纯度金属膜，总厚度可控范围为1 ~ 3,000 nm。Cryo-T12CBH配有先进的低温冷却装置，用于沉积过程中将基板冷却至-180 °C。这保证了在整个基板上可以达到均匀的膜沉积速率，从而产生更均匀的层厚度。该机还包括一个电子束源，用于底物预清洗。预清洗消除了表面粘附，降低了金刚石般的碳层粗糙度，改善了膜沉积前基板的表面质量。ULVAC Cryo-T12CBH具有较高的沉积速率，独立的温度控制工具，加上均匀的气体流速，可以对工艺室环境进行精确的控制。这导致最小的金属吸收到基板和更高的沉积速率。溅射资产还有一个可选的预电离室，用于修改气体分子进入过程室的行为。这有助于减少等离子体从生长中的膜中解吸的问题，从而导致更高的结构膜完整性。Cryo-T12CBH能够通过使用紫外线辅助来提高薄膜硬度和粘附强度,紫外线辅助包括在溅射过程中监测到的紫外线照射到基板上。这有助于减少薄膜的缺陷，提高薄膜的长期可靠性和稳定性，从而使沉积更加均匀和平坦。ULVAC Cryo-T12CBH的设计可满足各种应用要求,包括过层涂层、粒子束沉积、多层薄膜堆栈和低温氢气处理。这种溅射模型是将金属薄膜溅射到各种基板上的最高效、最具成本效益的工具之一。凭借其先进的技术和耐用性，Cryo-T12CBH是任何溅射应用的可靠选择。