二手 ULVAC CS-200 #9156832 待售

ULVAC CS-200是由真空技术领先的ULVAC设计制造的溅射设备。它设计用于薄膜的沉积,用于半导体器件制造、光学元件和数据存储等应用。CS-200是一种利用磁控管溅射的桌面单室系统。易于安装，适用于低至中度高沉积速率。ULVAC CS-200使用圆形基板表,最多可容纳6个基板支架,最大基板尺寸可达300毫米。源安装在基板表的正上方，可以独立移动到基板表面上方，形成均匀的沉积物。该单元最多可容纳四个溅射源，包括标准磁控管和射频溅射源。涡轮分子泵为机器提供2 x 10-5 Pa的底压，它与旋转式叶片泵耦合，总泵送速度为10,000 L/s。它还具有干净、通用、易于使用的触摸屏界面。CS-200还利用了多种安全功能,包括压力互锁工具,该工具可在压力超过设定点时自动禁用高压源,电动快门可防止意外暴露于腔室,以及风扇监视器以确保电源的适当冷却。ULVAC CS-200是低到中速溅射应用（包括需要多个目标的应用程序）的理想选择。其先进的特点，如源的独立运动和高精度的压力互锁资产保证了重复和精确的薄膜沉积。可靠、高效的CS-200操作使用户能够充分利用其溅射模型。