二手 ULVAC CV-200 #9251716 待售

ULVAC CV-200是一种用于各种薄膜沉积应用的溅射设备。它主要用于将薄膜沉积到各种基板上，以实现所需的电气、光学或热特性。溅射系统用途广泛，为更高的沉积速率和更高的粒子密度提供等离子体电离。该单元由高真空溅射室、加热冷却机、旋转基板台以及离子源、质谱、薄膜沉积API等多种高真空组分组成。溅射室配有四个大功率磁控管溅射源，均匀膜沉积的强大反向磁控管模式，以及精确控制参数的先进数字控制。加热和冷却工具由水冷陶瓷加热元件Peltier冷却器和液氮冷却资产组成，可快速冷却和加热速率高达500 °C。旋转基板表具有可变的旋转速度、旋转暂停和启动功能以及用于精确均匀薄膜沉积的自动基板定向。该模型采用先进的离子源技术，具有创新的空心阴极电离器和血浆电池。还提供了一个可选的第二离子源，它使用具有空心阴极发射器和产生更高离子和粒子密度的平面电离器的双源构型。该设备还具有质谱功能，可以分析溅射沉积物中的活性物种，以便对其进行监测。还包括一个先进的薄膜沉积API，用于使用数字信号的高级过程监测和控制。这允许用户定义沉积参数，运行模拟来优化过程，轻松保持理想的沉积速率和均匀性。ULVAC CV 200极易使用，提供优异的薄膜沉积效果。它提供了广泛的可自定义参数,使用户能够使系统适应其特定的应用程序。它具有较高的沉积速率和精确的均匀性，是各种薄膜沉积需要的理想选择。