二手 ULVAC EBX-2000C #9260363 待售

ULVAC EBX-2000C是为薄膜沉积技术设计的溅射设备.它利用电磁波（EM）加速技术，使离子源更高效、更快，而无需加压环境或其他电源。该系统由目标组件、源室、真空室、溅射枪和可选辅助室组成。目标组件允许在一个框架内保持多个目标,每个目标都有不同的材料,从而可以快速轻松地切换材料以进行溅射。源室是离子源所在的位置，通过流体管与溅射枪相连。真空室用于创建溅射所需的真空环境，并可进行调节，为不同的沉积过程提供不同的真空水平。溅射枪是将要沉积的材料送入单元的地方，也是EM加速技术发挥作用的地方。最后，辅助室是一个单独的腔室，可用于额外的溅射沉积过程。为了确保从ULVAC EBX 2000C中获得良好的薄膜沉积，保持适当的真空读数、溅射压力、功率水平和基板温度非常重要。机器的适当维护对于确保沉积过程的质量也很重要。这包括定期清洁源腔和溅射枪，以及检查电气连接。该工具还带有一个控制器，可用于编程和监控资产操作，以及数据记录和报告功能，以跟踪沉积时间。总体而言，EBX 2000 C是一种可靠高效的溅射模型，具有多种目标配置，可用于薄膜沉积。它提供了广泛的操作参数，使工艺符合所需的薄膜轮廓，并在适当维护时提供可靠和可重复的沉积工艺。