二手 ULVAC EI-5 #293826440 待售
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ID: 293826440
晶圆大小: 2"-8"
优质的: 2006
E-Beam evaporator, 2"-8"
Substrate:
Material: Si wafer, Si + Mo sintered substrate, Glass, GaN, GaAs
Size: φ2"-8"
Vacuum conditions:
EC-803 Rotary vane pump, speed: 1340 / 1600 L/min
CRYO-U16P Cryo pump, pumping speed (N2): 5000 L/sec
Ultimate pressure: 3 x 10^-5 Pa
Pumping time: 20 Mins to 3.0 x 10^-4 Pa
Film deposition:
E-beam evaporation 10Kw - 16Kw
Holder: Planetary
Uniformity: Within ±5 %
Substrate heating system:
Maximum substrate heater temperature: 350°C
Operation mode:
GPCS - 2700 Touch screen: PC + PLC
Evaporation system:
E-beam evaporation
Control and operation system:
MITSUBISHI Q Series PLC
PC
TFT LCD Touch panel monitor
Cooling water: 25 - 39 L/min, 20 - 28°C, 0.35 - 0.7 MPa
Back pressure ≤0.05 MPa
Compressed air: 0.4 - 0.7 MPa
Power supply: AC200 ±10%, φ3: 50Hz, 50 KVA
2006 vintage.
ULVAC EI-5是为各种工业应用而设计的溅射设备。用于薄膜沉积、蚀刻、材料改性等。该系统由一个控制器、一个腔室、一个沉积源和相关的真空泵组成。先进的控制器为控制设备及其运行的各种参数提供了卓越的精度和可重复性。具有先进的沉积过程精密控制温度控制和各种薄膜均匀沉积的头端配件。溅射室采用双磁控管，圆形横截面设计，由铝制成。它具有空气绝缘的内部和电绝缘的外部，以提供卓越的性能和安全性。设计用于100W或200W功率运行，适用于中、大面积薄膜沉积。溅射源允许在单个循环中沉积20nm的涂层，并且可以在卸载和半加载模式下操作，以提高沉积速率。EI-5机器配备了多种真空泵，包括涡轮分子泵、离子泵和机械泵。涡轮分子泵可以达到10-2 Pa的基本压力，能够快速泵送速度达到200 L/s。离子泵和机械泵非常适合不需要高速泵送但仍需要低极限压力的应用。ULVAC EI-5溅射工具有一个高级控制面板，可以用配方和用户友好界面编程。它还具有用于最佳温度控制的腔室温度传感器和防止电子在真空中从粒子反向散射的安全圈。EI-5资产适用于许多不同的工业薄膜应用，包括电子元件、医疗植入物、光学装置、汽车元件和装饰涂层。其卓越的精度、可重复性和多腔室配置使其成为许多应用的理想选择。凭借其先进的功能和用户友好的界面,ULVAC EI-5溅射模型一定能满足您的所有需求。
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