二手 ULVAC EI-5 #9107280 待售

ULVAC EI-5是一种先进的用于薄膜沉积的溅射设备。它提供了5室同时溅射（2室对3室），在溅射方面具有无与伦比的灵活性和均匀性，使其成为高性能半导体和MEMS器件各种应用的理想选择，包括硬磁性和软磁性材料。EI-5的高精度偏置溅射能力在广域内提供了最高的过程均匀性,从而在晶圆上实现了卓越的产品一致性。该系统的设计特点是为精确控制而设计，允许用户从各种溅射过程中进行选择，如高速率直流溅射、高通量脉冲直流溅射和非常高速率的溷合直流/脉冲磁控管溅射。可调腔室尺寸提供独特的能力，以适应任何基板尺寸，包括大型框架。ULVAC EI-5单元还提供了优化的溅射设计，提高了薄膜沉积的均匀性和目标利用率。最佳目标设计消除了使用多个小目标的需要,从而简化并降低了溅射过程减少的成本。此外，溅射阴极上的内部屏蔽设计有助于消除磁性视线风险，防止腔室之间的交叉污染。闭环过程监控结果一致,有助于优化运行时间和质量。EI-5配有各种真空组件和配件，以满足最苛刻的要求，如溅射源、电源、气体处理、过程控制器和安全系统。ULVAC EI-5既易于使用,又性能卓越,是寻找能够提供可靠、高质量产品的溅射机的用户的必备产品。通过模块化、可扩展的设计,它可以满足从简单到苛刻的应用程序的各种要求,并且是那些寻求降低成本和最大化性能的人的理想选择。