二手 ULVAC Ei-5K #293603133 待售
网址复制成功！
单击可缩放
ULVAC Ei-5K是一种用于真空环境中金属、绝缘体和半金属表面沉积的溅射设备。该系统的功率是可调的,可用于创建多种沉积厚度和特性。其最大基板尺寸为25cm x 20cm，目标表面与基板的距离可以调节。ULVAC EI 5K是一种紧凑、紧凑的型号,可轻松安装在洁净室和实验室中。溅射过程是基于使用施加到基板上的电压来诱导一个称为溅射的过程。在这个过程中，目标可以被高能离子轰击，从而将物质从目标溅射到基板上。此过程可以创建薄且高质量的表面隔离。Ei-5K具有较高的等离子体密度，比其他溅射系统具有更高的沉积速率。这种装置通常使用氙气作为溅射介质，但是其他气体如氮气和氧气也可以使用。它还提供了用户灵活性，因为机器可以容纳各种材料类型、化合物和浓度。EI5K的一个关键优点是其高离子产率。这是离子从目标喷射的速率，增加溅射产率和提高沉积速率。此外，该工具还提供了均匀的沉积，允许均匀的薄膜厚度。ULVAC Ei-5K还具有独特的基板清洗模式。在溅射过程开始之前,资产会自动清除基板。这改善了沉积材料的附着力，消除了污染物。此外，在溅射过程中，模型能够保持一个优化的腔室压力和温度。这样可以确保溅射过程不会因环境的波动或变化而中断。ULVAC EI 5K为在表面沉积领域工作的用户提供了许多好处。其功率可调，沉积均匀，离子产率高，底物清洗能力大，对于任何寻求优质可靠效果的人来说都是绝佳选择。此外，它是紧凑的，需要最低限度的维护和保养。
还没有评论