二手 ULVAC Ei-5K #293671659 待售

ULVAC Ei-5K是一种高性能溅射设备，设计用于将各种厚或薄膜层沉积在大小基板上。该系统由控制器、真空室和离子源组成。控制器负责协调来自腔室和离子源的输入，以维持最佳的单元运行。它包括一个用户友好的界面，这使得容易升级和全机控制。它还实现机器人应用提供全自动层沉积过程。真空室作为发生各种沉积的溅射区域，包括直流电（DC）溅射、惰性或反应性溅射。它设计用来处理比传统溅射沉积大三倍的负载。该腔室还配备了水冷磁性等离子体源，允许增加目标材料的电离。优化直流溅射需要离子源。它通过将小颗粒从目标材料（源）加速到基板表面而起作用。离子源还作为溅射电阻的能量来源和熔化和晶体生长的热能来源。负责溅射沉积的离子可以集中在底物的任何所需区域。综上所述，ULVAC EI5K溅射工具是为大、小基板上的厚膜和薄膜的高效沉积过程而设计的。该资产由用户友好型控制器、大型真空室和离子源提供动力,可提供最佳性能和一致的结果。