二手 ULVAC Ei-5K #293824786 待售

ULVAC Ei-5K是一种用于薄膜沉积、光学涂层和微电子器件制造等应用的溅射沉积设备。该系统具有广泛的功能和特点，允许多用途的研究和工业应用。在其核心，ULVAC EI 5K是能够溅射沉积到基板和部件，允许一个特定的均匀保形涂层。该单元配备了5-kW多目标多弧磁控管溅射源，能够覆盖多块基板。精确的电源可确保向目标输送准确的能量,从而实现均匀涂层。一个过程中的监视器监测正在进行的沉积过程，就沉积剖面的变化提供实时反馈。它还根据施加的载荷调整参数，允许精确的沉积剖面和均匀的涂层。此外，还包括了一个过程气体控制机器，允许引入氙气或氮气溷合物，以更好地控制溅射过程。Ei-5K采用先进的台阶移动工具，可以快速装载和卸载基板，同时确保精确的移动轮廓以实现高均匀性。这是通过使用自动桥、精确的x-y阶段定位资产和快速基板传输的组合来实现的。EI 5K也是为了方便的运算符交互而设计的。透明的观景室允许无缝的过程观察和控制。包括一个直观的HMI（人机接口），方便地控制参数和监控整个过程。此外，用于流程控制和数据采集的软件工具可用于分析流程数据，有助于确保质量和可靠的结果。总体而言，ULVAC Ei-5K是一个可靠的薄膜沉积模型，适用于各种应用。它是专门设计的，以最高的均匀性、精确的控制和可重复的结果进行精确和可重复的溅射。