二手 ULVAC Ei-5K #9248803 待售

ULVAC Ei-5K是一种单目标金属溅射设备，用于半导体制造和航空航天应用。该系统是一种超高真空溅射技术，具有很高的工艺控制水平。它具有一个4.5 x 6英寸的大溅射目标和两个5英寸的溅射头,可以满足各种流程请求。该机组采用ULVAC专利的ULVAC EI 5K磁控管源，对溅射材料进行最大电离，并获得最佳目标功率。这增加了对目标的离子轰击，从而提高了材料沉积均匀性。机器的高功率水平也确保了高沉积速率和更高效的溅射过程。Ei-5K具有完全定向的离子源，可以量身定制以匹配目标材料的形状。这与先进的光发射光谱（OES）工具相结合，该工具提供沉积监测，并允许先进的过程控制。该资产还配备了能优化工艺环境以实现高质量沉积的气体输送模型。设备多功能，可沉积铝、铜、铬、钨等金属。也可用于沉积薄膜，用于介电和抗反射涂层的应用。另外，溅射系统用途广泛，可以适应各种技术，如成分控制、梯度溅射和反应性溅射。EI5K采用高性能涂层输送装置设计，具有良好的沉积均匀性和可重复性。它还具有温度范围为-20C到+150 C的基板支架。这允许在涂层过程中对基板进行温度控制，这有助于确保高质量的材料沉积。总体而言,ULVAC Ei-5K为需要一致结果的金属溅射应用提供了经济高效的解决方桉。先进技术和高精度工艺的结合提供了可靠的结果，同时确保了较低的运营成本。这种溅射机具有多种特点，非常适合各种应用，提供了可靠高效的涂层工具。