二手 ULVAC Ei-5K #9302604 待售

ULVAC Ei-5K溅射设备是制造高质量薄膜和厚膜的最先进的沉积系统。它结合了传统和新颖的涂层技术，使其能够与多种材料一起工作，包括金属、氧化物、氮化物、碳化物和硅化物。ULVAC EI 5K非常适合要求高精度、超低热质量沉积和高沉积速率的应用。Ei-5K与一系列基材相配合，包括铝、钼、铜、铬、钛、氧化铝和石英。该溅射装置配备了ULVAC电子线射频/ICP源，允许在广泛的溅射条件下进行优化。该机还可以容纳广泛的盾牌，如E-Shield和E-coat。EI5K提供双腔室操作，允许沉积具有高通量的复杂材料。磁控管源和基板级可以配置成相反的方向，允许独立的双向溅射。此外，该工具可容纳若干目标，从每个舱室的一个目标到每个舱室的多个目标。ULVAC Ei-5K能够在考虑压力、沉积速率、温度和蚀刻速率等不同参数的情况下生产各种材料的高质量薄膜。为了获得卓越的性能,ULVAC EI 5K具有动态等离子体控制资产,可对目标流量、功率和/或基板偏差进行实时监控和闭环控制。Ei-5K还配备了沉积监控器控制模型，可以准确监测过程中的所有元素，如薄膜的厚度、沉积速率和原子含量。该设备还为用户提供了一个图形用户界面，以便于流程设置。总之，EI5K溅射系统是高质量薄膜沉积的一种优秀仪器。它提供了广泛的基板选项和目标，动态等离子体控制，以及准确的沉积监测。这使得ULVAC Ei-5K需要精确和超低热量沉积的溅射应用的理想选择。