二手 ULVAC Ei-5K #9305863 待售

ULVAC Ei-5K是一种高性能溅射设备，设计用于薄膜的精确可靠沉积。它拥有先进的技术，包括高功率脉冲偏置溅射和电子束突击溅射模块。ULVAC EI 5K被设计用于各种材料的快速沉积，从而能够形成金属膜、介电膜和器件结构。Ei-5K具有水冷磁控管溅射源和三轴机动运动控制，用于精确控制基板屏蔽和两个独立和独立控制的加速度和偏置源。用于金属和介电层均匀沉积,具有良好的附着力和化学计量性能.集成的高稳定性、高分辨率监控系统保证了高质量薄膜的精确溅射。EI5K的电子束突击溅射模块提供了对沉积金属薄膜微观结构的微粒控制。该模块精确控制了光束的轰击能量和通量，从而降低了应力，增强了结晶度，改善了薄膜表面的正向散射。ULVAC Ei-5K的控制器为各种应用提供了多种预编程配方，如用于扩散屏障的多层堆栈、高折射率层、低k电介质。ULVAC EI 5K还具有改进的氦气背面等离子体模块,以提高等离子体均匀性,以及先进的磁流体动力学（MHD）控制,以稳定温度和减少在电平工件座椅期间的波动。该装置设计用于高通量处理，使导电和非导电金属涂层、介电膜以及光学层能够快速、均匀地沉积和沉积薄膜。最后，该机配备了先进的安全功能，包括板式跳闸开关、可选的射频等离子体发电机、气泵、气体输送系统以及用于清洁气体输送的湿度泵。所有这些特点相结合，使Ei-5K成为高精度薄膜沉积在半导体、光电子和耐磨涂层应用中的理想选择。