二手 ULVAC Ei-5K #9364554 待售

ULVAC Ei-5K
製造商
ULVAC
模型
Ei-5K
ID: 9364554
晶圆大小: 2"-6"
E-Beam evaporators, 2"-6".
ULVAC Ei-5K是一种用途广泛且精确的溅射系统,旨在将薄膜沉积到各种基板上。该系统配备了一个5室集群工具,允许可定制的工艺配置,以提供大量的材料沉积选项。利用ULVAC-VHS技术,提供高质量的溅射涂层,具有先进的方向均匀性控制和优异的应力控制性能。ULVAC EI 5K的机械臂可根据满足不同工艺要求所需的各种角度进行调节。它还提供了主要的抽水能力,在五个腔室中的每个腔室都装有冷冻泵,用于动态抽水控制。它利用真空负载锁和快速排气关闭阀进行快速沉积过程循环,而其现代控制器界面提供了增强的过程控制和控制系统诊断。为保证高保真胶片的生长,Ei-5K配备了先进的定向均匀控制软件。这保证了应力和沉积速率之间的完美平衡,使得令人难以置信的均匀膜沉积和应力控制。等离子体监测的多阶段保证了高膜质量和更大的吞吐量。它还提供了一个可选的视口,用于对工艺进行视觉确认,以确保工艺性能得到满足,以及一个激光干涉仪,用于对较大的基板进行原位工艺监控。EI5K利用射频和直流磁控管溅射以及热蒸发、电子束和辉光放电技术。此外,集成的DC-FIB允许在诸如MEMS或复杂的3D对象之类的坚韧涂层基板上对薄膜进行精确的图样沉积。它还利用了多种气体系统,其中包括氙气、氧气、氮气、六氟化物、K等,提供精确的物质流量控制和气体流量模式。最后,ULVAC Ei-5K经过专门设计,具有灵活性和效率,可使轨道溅射室对环境的影响较小。它的模块化设计方便用户使用,可通过增加腔室或元件来扩展增长,而其快速的循环时间和可靠的操作使其成为许多要求苛刻的薄膜沉积应用的理想选择。
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