二手 ULVAC Ei-5K #9402604 待售

ULVAC Ei-5K溅射设备是适用于物理气相沉积（PVD）应用的高性能工具。它可以以受控的、可重复的方式沉积各种材料，使其可用于各种半导体、光电和储能装置的薄膜沉积。该系统允许在一个真空循环中处理多达四个基板。基材的直径可以从直径2英寸到直径8英寸不等。ULVAC EI 5K允许范围广泛的等离子体功率,范围从0-3000W到200-2000W。此单元还具有范围广泛的厚度控制轮廓,范围从0.1到1000 nm不等,使其成为各种应用的合适选择。它的双源重力馈送输液细胞使单独的源可以用于不同的工件。这确保了每个基板的最佳结果。牢房门容易打开，便于基板装卸。该机利用了从O2到Ar/N2的多种工艺气体组合，允许不同种类的层。它还允许外部耗尽的源配置。该工具配备了七通道质量流量控制器，测量气体的流量并将其驱动至所需压力。该资产提供了一系列沉积模式，包括脉冲直流、直流和直流+射频溅射，从而实现了更好的沉积速率控制。该型号具有坚固的钟罩真空室，适合多种工艺。此外，其联锁的安全特性确保设备安全运行。此外，系统还设有直观的触屏界面，配有食谱记忆。这样可以更轻松地配置和执行步骤较少的进程。此外,内置的数据记录功能允许更轻松地评估流程参数。最后，Ei-5K还附有教学材料，非常适合不熟悉设备设置的用户。最后,EI 5K是一种灵活、用户友好的工具,非常适合各种PVD应用。这种溅射装置提供了广泛的厚度控制选项，以及不同的沉积模式。此外,其直观的触摸屏界面允许轻松操作和数据记录,以确保准确的结果。