二手 ULVAC ei-5t #293814829 待售
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ID: 293814829
E-Beam evaporator
EGL‑406M EB source
HPS‑1000S‑100 power supply
Beam sweep control
Vacuum сhamber
Hearth rotation feedthrough
Internal jig system
Substrate heating system
Source shutter
(8) Lamp heaters: 6 kW
(4) Quartz glass shields
Heater power supply
Temperature controller
Thermocouple
CRYO‑U16P / C30VR vacuum pump
LR90 dry pump
Roughing valve
Vent valve
CRTM‑9000 deposition controller
Sensor shutter
PLC / PC control
Touch panel operation
Electric parts set
Compressed air system
Cooling water system
208V → 200V step‑down transformer
Vacuum gauges:
G‑TRAN BMR2
G‑TRAN BPR2
G‑TRAN SP1.
ULVAC EI-5是日本领先的真空技术和薄膜沉积设备制造商ULVAC的高精度溅射设备。该系统非常适合用于各种研究、开发和生产应用，因为它配备了多种功能以最大化其性能。EI-5是一种先进的溅射装置,具有高精度的过程控制、多目标配置和较大的工作区域等多种功能。它采用单柱结构建造，能够处理直径达400mm的晶片。此外，这种溅射机具有很高的均匀性和极好的可重复性，适合生产多层结构。为了满足其高性能标准，该工具配备了交叉连接的等离子体发生器，在广域内产生均匀的等离子体。这种高性能等离子体允许改进高密度沉积控制，使用户能够产生具有增强同质性的层。此外，资产的高精度控制减少了沉积过程中颗粒和潜在缺陷的发生。该模型具有多目标配置，可以在单个晶片上处理多种材料。这意味着用户可以创建各种层,并在单个设备中进行各种配置。该系统还能够处理各种材料，包括金属、氧化物和半导体。此外，该单元还配备了一些安全功能，如自动关闭机构，在紧急情况下关闭机器。此外,还可以远程监视该工具,使用户可以从自己的办公室密切关注资产的性能。ULVAC EI-5是一种用户友好可靠的溅射模型,具有多种先进的工艺和设计,可提供高效和高质量的沉积性能。该设备可用于广泛的研究、开发、生产和维修过程。EI-5具有惊人的精度、多目标配置和安全特性,是任何应用程序的理想溅射系统。
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