二手 ULVAC EI-7K #293587277 待售

ULVAC EI-7K是一种用于材料薄膜沉积的溅射设备。它由专门从事真空技术的公司ULVAC Technologies, Inc.制造，并利用自己的创新工艺EI技术（下文提到）。该系统设计用于高效沉积，可与多种靶标一起使用，包括由氧化物、氮化物、氧硝化物、金属和合金以及硅化物组成的靶标。EI技术利用专用离子源使室内溅射气体电离。这有助于高离子密度和对能量、能量扩散和入射角的严格控制，从而形成一个适用于各种材料的均匀、高效的沉积过程。其他特性包括两个电子倍增器，用于改进过程控制和速率优化。此外，该单元还配备了两台显示溅射位置和过程时间的小型显示器，改善了过程管理。ULVAC EI 7K有一个7英寸的双（双）旋转溅射室，最小腔室压力为5x10-5 Pa，设有单独的气箱和气线，实现高效的气体利用。该机支援五类目标：高、低阻力目标；COG、溅射和补充目标；和PCD（脉冲控制失真）目标。为了提高薄膜沉积效率，腔室还配备了强大的磁场发生器，可以控制磁场的方向。对于离子源参数的精确控制，RF（射频）等离子体可用。EI-7K的最大晶圆尺寸和温度分别为300 mm和400°C。归根结底，EI7K溅射工具是不同材料高效沉积的绝佳选择。它高效、准确、灵活。它带有一系列专门设计的特性，以使胶片沉积更容易、更精确。由于这些原因，它是广泛行业使用的绝佳选择。