二手 ULVAC EI-7K #9402606 待售

ULVAC EI-7K是一种用于薄膜沉积过程的溅射设备。具有高精度和大基板加工能力，大面积沉积速率均匀。它利用单一的高电流磁控管阴极，以及两个较大的射频偏置（RFB）电极，导致更大的沉积速率范围，从低功率到高功率溅射。ULVAC EI 7K还配备了变频电源，允许控制沉积速率水平，用于不同的溅射过程。除了RFB和磁控管阴极外，EI-7K还有强大的离子束用于蚀刻和表面改性。这种离子束有助于产生均匀的薄膜沉积速率和高质量的表面光洁度。EI7K还提供多种工艺模式,包括：高功率溅射、低功率溅射、多堆栈溅射和离子束辅助沉积（IBAD）。ULVAC EI-7K的溅射室设计为能够容纳直径达600mm的大型基板。它还能够接受许多种类的底物，包括：石英、二氧化硅、氧化铝和氮化氙。腔室采用圆柱形设计，采用顶载系统，旨在通过消除人工给药的需要来降低成本和提高效率。ULVAC EI 7K还具有独立的温度控制单元，允许在过程参数内进行温度控制。EI-7K溅射机是一种先进的薄膜沉积和蚀刻工具。它具有广泛的工艺能力和特点，从低功耗到高功率溅射，以及一系列的基板类型。其强大的离子束有助于均匀的薄膜沉积和高质量的表面光洁度。其圆柱形设计采用顶载工具，有助于降低成本和提高效率。最后,其独立的温度控制资产有助于使过程保持在参数范围内。EI7K是薄膜沉积和蚀刻工艺的理想工具。