二手 ULVAC ei-7L #9236127 待售

ULVAC ei-7L是由ULVAC Inc.生产的溅射设备，ULVAC Inc.是一家专门从事真空科技的跨国公司。ULVAC EI-7 L采用磁控管溅射工艺将薄膜沉积到硅片、石英晶体、陶瓷或玻璃等基板上。利用高频交流电源，制造出低温等离子体，然后用于将薄膜沉积到基板上。这个溅射过程可以用线性或旋转平面目标执行。Ei-7L具有高达5kW的最大直流溅射功率和高达3kW的最大交流电源。它可以在从超高真空到大气层的广泛腔室压力范围内运作。它具有一个内部腔室大小，可以容纳一个4英寸的晶圆到一个8英寸的晶圆。工艺温度可维持至400°C。它还配备了一个自动压力控制系统，可以监控和调节腔内的压力，并将其维持在所需的水平。EI-7 L由一个精密的机械臂构成，可以使基板和目标在腔内自由移动和旋转。广泛用于将薄材料沉积在金属、半导体、绝缘体、聚合物等基板上。溅射过程可用于广泛的应用，包括平板显示器、太阳能电池、LED等等。ULVAC ei-7L具有先进的射频匹配单元,该单元匹配电源和溅射室之间的阻抗。它还配备了在溅射过程中保持腔室温度的精密冷却机。其先进的控制工具允许用户监控和控制诸如时间、功率、电压和压力等过程参数。ULVAC EI-7 L是一种多功能溅射资产,能够溅射各种材料和基板。它具有即使有少量材料也能以高速率沉积薄膜的能力。ei-7L具有高度的兼容性和精密的控制系统，是制造可靠、高质量薄膜的绝佳选择。