二手 ULVAC Entron EX W200S #9266623 待售

ULVAC Entron EX W200S
ID: 9266623
晶圆大小: 8"
优质的: 2006
Sputtering system, 8" SiO2, TiO2 2SP Chamber 2006 vintage.
ULVAC Entron EX W200S是为广泛应用而设计的高性能溅射设备。它非常适合薄膜沉积、蚀刻、制图等薄膜应用。该系统采用先进的涡轮分子泵送装置,可提供良好的真空环境,具有良好的真空稳定性和可靠性。Entron EX W200S使用具有4维运动能力的腔室,给予精确的样本操纵。它有一个可旋转的基板级以及一个特定程度的倾斜溅射靶子,允许用户以广泛的角度沉积,以提高沉积质量。通过非接触式、非磁性、非交换式、激光光学干涉仪控制基座定位,保证了运动的高精度。ULVAC Entron EX W200S与铝、镍、铬、钛、锌、金、银和合金等多种材料兼容。它能够用脉冲电源控制6个磁控管源,可以溅射元素材料或目标材料,以增加薄膜均匀性。此外,离子束光源有助于平滑沉积的薄膜,增加对基板的附着力。溅射过程在很大程度上由带有直观图形用户界面的板载过程管理软件实现自动化。它能够以可靠的重复性执行复杂的多步溅射过程。本机还具有广泛的工艺监控选项,如基板温度、压力、电流、电压等。最后,使用实时在线联锁工具可确保资产的安全运行。总之,Entron EX W200S是一种强大而精确的溅射模型,为用户提供可靠的薄膜沉积和蚀刻结果。它非常适合任何需要高可靠性和优异效果的实验室。
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