二手 ULVAC Entron EX W300 #293587264 待售
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ID: 293587264
晶圆大小: 12"
优质的: 2012
Multi-chamber sputtering system. 12"
(8) Chambers
2012 vintage.
ULVAC Entron EX W300是一种功能强大且用途广泛的高性能溅射设备,专为要求苛刻的溅射沉积应用而设计。其先进的技术提供了高速率的均匀性,最佳的工艺控制和卓越的可重复性为优越的薄膜涂层性能。ULVAC ENTRON-EX W300具有两个溅射源,两者都能够同时沉积在特高压室中。该源可以独立使用,也可以串联使用,同时用于两种不同材料的同轴溅射。每个源都具有回火溅射阴极和可编程晶片级,用于单目标或双目标火炮操作。ENTRON EX W 300溅射系统还提供卓越的重复性和高工艺均匀性。设备的设计允许根据用户的流程需求进行四种不同的配置。它可以编程为自动控制介质旋转、气流和温度设置,具有很高的精度和精确度。用户还可以自定义机器参数和设置,以单独升级刀具性能。其他主要功能包括:端点检测、材料映射、非玻璃掩模处理和温度控制。此外,ENTRON-EX W300还设计了一个集成的冷却剂反馈回路和温度传感器,以监测和调整室内的环境温度。这样可以确保溅射薄膜层达到最佳的附着力、均匀性和一致性,同时确保腔室始终处于热控制状态。该资产还提供了一系列自动化选项和高级控制功能,如自动配方、边缘溅射、可编程目标偏差和多个晶圆沉积。Entron EX W300可配置用于多种薄膜应用,包括光电、高级基板和半导体器件。总体而言,ULVAC ENTRON EX W300溅射模型是高速率、均匀、可重复沉积应用的绝佳选择。其先进的自动化、卓越的性能和灵活性使其成为需要最高级别工艺控制的薄膜沉积工艺的理想解决方桉。
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