二手 ULVAC Entron EX W300 #9282018 待售

ULVAC Entron EX W300是一种基于平行磁控管的溅射设备，设计用于精密涂层工艺和均匀的薄膜应用。这种大面积的平行溅射系统具有多前体、单同时溅射工艺，可提高涂层质量和在宽晶片上均匀沉积。ULVAC ENTRON-EX W300单元由一个集成的负载锁定室、一个处理室以及每个溅射源的独立电源组成。W300机由于在一个腔室中包含多个基板支架的独特设计，可以实现很高的均匀性。这可以使单个溅射运行产生均匀的薄膜涂层跨越大面积，如150毫米晶圆。该工具采用直接二极管偏置电源，用于精确控制和精确精度，以优化工艺结果。此外,该W300还采用垂直载荷锁定室设计,有助于消除污染问题。强大的DC/RF电源、双源双模块资产相结合,可提高薄膜均匀性,而且模型的非阴影部分有助于增强大管状基板的均匀性。ENTRON EX W 300还具有坚固的真空设备,可帮助生产高活度薄膜,从而提高其使用寿命和可靠性。其高动态工艺控制也使其成为高精度涂层工艺的理想选择。该系统也非常适合生产光学薄膜涂层，如抗反射和高反射率涂层。ENTRON EX W300与包括金属、玻璃和陶瓷在内的各种基材兼容。ULVAC ENTRON EX W 300是生产多种用途的薄膜涂层的理想涂层单元。其坚固的设计和高精度使其适用于精密涂层工艺和均匀的薄膜应用。该机还非常适合光学薄膜涂层，与各种基板兼容。