二手 ULVAC Entron EX W300T #293815144 待售

ULVAC Entron EX W300T是一种功能强大且高效的溅射系统,旨在实现硅片加工的最佳性能。它是一种用于薄膜溅射沉积的单片单面加工设备。系统具有300毫米晶圆级，底物持有者温度范围较低，为-70至400摄氏度。它具有水平沉积室设计，具有六目标设计，最多可容纳五个目标，以及晶圆基座或夹具。其目标安装在水平旋转构型中，以允许薄膜均匀沉积。它具有可编程的高性能射频电源,最大功率可达2000W,方便、准确地对晶片进行溅射剥离。它配有高分辨率刀片刮刀和垫片密封装置，具有可靠的蚀刻和薄膜质量。它拥有与工艺控制软件集成的气压控制机，以获得更好的薄膜特性。该工具具有较高的真空过滤资产，可用于自动沉积过程。它配备了定制的上下部静电卡盘，便于处理的超薄晶片。它具有先进的晶圆测量模型，使用户能够测量沉积膜的厚度和均匀性。Entron EX W300T设计方便维护,并提供长期可靠性。它还具有可选的负载锁定设备,可以快速、方便地访问示例加载和卸载。总体而言，ULVAC Entron EX W300T是硅片的绝佳溅射系统。它提供了快速高效的薄膜沉积处理,具有可编程射频电源、高分辨率刀片刮刀和气体控制等独特功能,以及用于薄膜精确控制和均匀沉积的自动沉积控制和测量系统。