二手 ULVAC Entron N300 #9314071 待售

ULVAC Entron N 300溅射设备是为全球高科技生产薄膜的可靠高效工具。采用获得专利的ETES方法，Entron N 300能够沉积各种材料的薄膜，从U-Ni到AuGe等，同时保持高均匀性和工艺重复性。ULVAC Entron N 300具有易于使用的操作系统和直观的软件界面,能够精确控制薄膜厚度和组成。它还允许两个主要溅射源的独立控制，使其成为多层沉积过程的理想选择。该机组配备了直径300 mm的End-Hall磁控管源，并设有Turbo核心、高性能机械泵和高效等离子发电机。这种构型使均匀沉积具有很高的均匀性和效率，总排放量最小。恩特龙N300专为TFT液晶、FPD及相关市场而设计，在整个300 mm晶圆尺寸上实现了优于± 0.1微米的基板均匀性。ULVAC Entron N 300凭借其高精度的等离子体生成机，能够沉积具有透射率和反射率等多种光学特性的薄膜。此外，Entron N300提供了成分或结构缺陷最小的高品质薄膜。其独特的超高功率模式在不影响膜厚度均匀性的情况下将沉积速率提高到3X。稳定的等离子体环境确保了对沉积动力学的精确控制，这也可以通过自动监控工具进行监控。最后,ULVAC Entron N 300得到了ULVAC广泛的溅射工艺工程知识和经验的支持。专家认为，其所有组成部分都是可靠和高效的，同时将维护保持在最低限度。这使得Entron N 300成为研发和工业过程的理想选择,因为它能够制造均匀的薄膜。