二手 ULVAC Entron #9038422 待售

ULVAC Entron是设计用于溅射薄膜的高端溅射设备。它是一种精心设计的用于溅射薄膜层的工具，可用于多种应用，包括半导体生产、薄膜研发和工业过程。系统基于双磁控管配置。这意味着磁控管被"锁定"在一起并共享相同的溅射弧线。磁控管产生具有控制光束发散和减少离子轰击的溅射弧。整个机组由高电流直流电源供电。Entron被设计为提供均匀、高质量、化学计量性能优异的溅射膜。它也是为最佳沉积速率和提高吞吐量而设计的。针对溅射沉积的最佳均匀性，对其超真空室进行了优化。ULVAC Entron具有内置的灵活性,允许沉积多层高质量薄膜。还可以以良好的电子透明度溅射金属、合金、电介质（例如Al2O3或SiN4）和氧化物层，使其非常适合用于光伏和电子应用。恩特龙还有几个特点，使其成为薄膜开发和生产的绝佳选择。它具有精密控制的薄膜传输、先进的压力和温度监测、自动端点检测等几个高端功能。此外，ULVAC Entron拥有一台集成的流体控制机器，能够高效溷合主动溅射气体，同时保持高度的过程控制。恩特龙还配备了高性能、稳健的控制工具。该资产包括多层膜的自动厚度控制、维护维护记录存储、批处理功能以及先进的离子能量和溅射电压优化等几个特点。该模型具有较强的精密工艺控制能力，可实现基于反馈的薄膜沉积优化。归根结底，ULVAC Entron对于希望溅射高质量薄膜的运营商来说是一个极好的解决方桉。其双磁控管配置和精确控制特性使其非常适合制造商和研究实验室。其精密控制的沉积速率保证了薄膜质量最高，提供了均匀准确的结果。它的灵活性允许开发复杂的多层堆栈，其预先编程的功能使Entron成为高生产运行的高效解决方桉。