二手 ULVAC Entron #9159056 待售

ULVAC Entron是一种用于各种工业应用的溅射设备。它设计用于在半导体晶片和其他扁平基板上生产薄金属或绝缘氧化膜。恩特龙系统利用高频电场在金属溅射靶和基板之间产生电弧，导致物料从靶上去除，物料沉积到基板上。电场还能均匀地加热目标，使基板的3D形状得以扫描。ULVAC Entron溅射装置配备了一系列特性和技术，以确保更高的过程重复性和均匀性。这些包括先进的过程控制算法、电子压力控制、增强的等离子体稳定性和过程均匀性补偿。Entron机器包括多源直流磁控管溅射技术，该技术可实现高沉积速率，最大程度地减少溅射目标和基板的损坏。双频技术允许独立控制磁控管电源-提供更高的沉积均匀性。获得专利的Substrate Guide机械手提供了高精度,并且可以更轻松地在平面基板和具有复杂3D配置的基板之间切换。与传统的溅射系统相比,ULVAC Entron工具具有许多优势,包括改进的过程重复性、更大的一致性、更低的功耗和更高的沉积速率。其紧凑的设计也使其非常适合在非常有限的空间中进行大批量生产。恩特龙是多种应用的理想溅射资产，包括金属化半导体晶片、IC封装、电极和微电子、不锈钢和镁基板以及装饰膜。它也适用于广泛的材料，如氧化铝、铬、氙、钼和钛。