二手 ULVAC Entron #9211052 待售

ULVAC Entron溅射系统用于为多种材料提供薄膜涂层。Entron设备可以沉积薄膜，从几埃到千分之一英寸不等，使其成为制造各种设备的理想工具。它是一种高稳定性、多源溅射系统，适用于从摩擦学到光学涂层系统的一系列应用。ULVAC Entron单元设计用于提供均匀、可复制的薄膜沉积,并对薄膜厚度进行高度精确的控制。它可以在串联或并联配置中容纳多达四个溅射目标。每个溅射源都提供了自己的电源和控制器，因此机器可以用来沉积多层或单层薄膜以及可配置的元件组合。Entron工具具有闭环溅射控制资产，可精确监控沉积速率并优化过程。该模型具有精确的真空控制功能，具有全金属室和扫描电子显微镜，可提供样品成像和数据采集。ULVAC Entron设备非常适合沉积硬磁膜和软磁膜,包括FeCo、NiFe和CoCr。它也是沉积诸如金刚石状碳（DLC）、的、的、的、的广泛材料的理想选择。此外，该系统还可用于中子和X射线探测掩模设计，以及纳米结构和薄膜系统的制造。另一个优点是，Entron装置具有低能基板加热源，可以快速热处理沉积膜。这种快速热处理能精确控制薄膜材料的性能和结构，并有可能改善基材的性能。总体而言，ULVAC Entron溅射机是目前最先进、用途最广泛的薄膜沉积系统之一，以高沉积速率提供精确、高质量的薄膜涂层。其灵活性和高性能使Entron成为满足各种薄膜沉积需求的理想选择。