二手 ULVAC MCH-4500 #58270 待售

ULVAC MCH-4500是一种多功能的溅射设备,可为各种材料提供高质量的薄膜沉积能力。该系统包括三个溅射目标,并可选择独立旋转每个目标。这使用户能够有效地与两种不同的材料进行共溅射。溅射功率可以为每个目标独立调整，范围从0到2000W，允许使用各种工作气体。MCH-4500还支持偏置溅射和连续离子束轰击，最大离子电流为600mA。ULVAC MCH-4500的有效目标面积为450mm x 350mm，允许沉积直径达210mm的晶片。方便的样品装载盘使晶片的装卸方便快捷。此外，使用特殊的屏蔽技术可以使腔壁保持凉爽，同时内部仍保持在高真空状态。这种冷却方法有助于防止不需要的薄膜或材料沉积在腔壁上，并有助于提高工艺的可重复性。该腔室由不锈钢制成，采用坚固的挡板结构在腔室内部进行均匀的离子轰击和/或等离子体生成。这种令人困惑的设计还有助于在沉积过程中保持腔室清洁，并有助于最大限度地减少溅射材料对薄膜的污染。此外，该单元设计有一个浮动基板支架，确保晶圆水平，允许均匀的薄膜沉积。为了允许可编程、可重复和可复制的胶片沉积，MCH-4500配备了触摸板操作的计算机控制机器。软件提供各种操作模式，包括固定溅射电流、沉积厚度和蚀刻速率。这使得ULVAC MCH-4500快速热退火、光学薄膜涂层和先进设备制造等应用的绝佳选择。ULVAC-MCH-4500提供了一个多功能和强大的溅射工具，非常适合各种薄膜沉积过程。它能够精确旋转目标、调节溅射功率、保持洁净腔室、轻松编程参数，使得ULVAC MCH-4500那些寻找强大且可重复的薄膜沉积能力的人的理想选择。