二手 ULVAC MLX-3000N #9236603 待售

ULVAC MLX-3000N
製造商
ULVAC
模型
MLX-3000N
ID: 9236603
优质的: 2000
Sputtering system Si wafer Process gases: Argon, O2, Ni, Ta, Cr, Cu Target: Cu O2 Chamber S3 exists Power on only (No wafer transfer confirmed) C6 Turbo (TMP-303LM) nonfunctional Missing parts: Display Front panel 2000 vintage.
ULVAC MLX-3000N是由先进薄膜沉积技术解决方桉的领先供应商ULVAC开发和制造的溅射设备。该溅射系统设计用于精密薄膜沉积工艺.该单元配有多个溅射源(最多4个目标),用于金属、半导体和电介质的同时沉积。它有一个闭合的磁场等离子体溅射室,有一个孔径圆柱形目标和一个旋转快门,提供面积均匀性。这样就可以在整个基板表面沉积薄膜,而不会因有效面积而造成阴影。该产品具有多区域溅射构型,能够在大型基板上同时沉积多层。高效的光谱扫描控制机可以精确地沉积精细图桉。它还具有内置的光发射光谱功能,提供对工艺参数的实时监控。大容量真空抽水工具可确保过程中低频振动和均匀的质量分布。由于采用了自动化的过程控制模型,该资产能够以均匀的方式进行高速率沉积,而不会改变基板。MLX-3000N是一种工业级溅射设备,其设计符合涂层沉积工艺效率和均匀性的最高标准。它具有多种可选功能,包括铬酸盐金属化器,可提供卓越的金属涂层。该系统适用于汽车、航天、军事、医疗、消费应用等PVD应用。ULVAC MLX-3000N是一种经济实惠且易于操作的溅射装置,非常适合工业应用中最先进的薄膜沉积。它提供可靠、精确、均匀的涂层溶液,效果优异,产量高。
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