二手 ULVAC MLX-3000N #9271145 待售

ULVAC MLX-3000N溅射设备是为半导体芯片生产而设计的最先进的溅射系统。该单元的主要功能是将各种材料的薄膜沉积在晶片和其他基材上。这台机器具有多种特性，确保每个晶片上的薄膜沉积质量最高。该工具由真空室、目标室和阴极溅射源三个主要部件组成。真空室的设计是最有效的.该室采用多区隔离和抽水装置，保持了10−8 Torr和更低的真空压力，在整个基板上具有极好的均匀性。装有溅射目标的目标室设计得极其稳定，提供可重复和可预测的性能。最后，阴极溅射源保证了材料在晶片上的均匀和可预测的沉积。MLX-3000N可提供高质量、可重复的结果,这对于半导体芯片的生产至关重要。它提供了多种功能，以确保尽可能高质量的沉积。利用其有效的气体净化模型，该设备能够在百万立方厘米内达到一个粒子的粒子水平。内置沉积均匀性监测系统可确保薄膜厚度均匀到纳米级。该单元还包括一台高精度的监控机器，能够以纳米精度测量薄膜厚度，并以高精度监测腔内温度。在可控性方面,ULVAC MLX-3000N具有多种用户友好功能。受控可变电源允许精确控制溅射过程，从而产生一致的薄膜厚度和均匀性。高效的远程控制工具使用户能够轻松地调整计算机的设置。该资产还包括防止过热并确保溅射过程保持稳定的内置安全系统。最后，MLX-3000N具有多种特性，使其成为半导体芯片生产的最佳选择。该模型配备了一个易于接近的装载站，用于基板装卸。此外，这种设备设计成本效益高，每个沉积周期成本低。ULVAC MLX-3000N对于需要可靠和经济高效的溅射系统来满足其半导体芯片生产需求的用户来说是一个极好的选择。它兼具特点和精度，是可靠、可重复的薄膜沉积的理想选择。