二手 ULVAC MLX-3000N #9273662 待售

ULVAC MLX-3000N是一种双磁控管溅射设备，用于半导体和光电器件制造中的薄膜沉积。它提供高速、数控溷合溅射系统，能够将金属、氧化物、氮化物和合金薄膜沉积在各种底物上。MLX-3000N配备了两种目标源：一种是大功率直流磁控管溅射源，另一种是中功率射频溅射枪。每个源都可以独立操作，允许多种沉积方法。其中包括一个先进的薄膜厚度监视器，可以在溅射过程中进行精确的厚度测量。此外，ULVAC MLX-3000N具有高速晶圆穿梭装置，一次最多可快速装卸4个晶圆。该单元具有高度灵活的源配置，允许使用各种目标材料和基材尺寸。直流磁控管源具有良好的沉积速率和良好的薄膜质量.它配备了一个电极电源，允许对薄膜沉积进行高精度的控制，以及对沉积室内氧气速率的精确控制。此外，射频溅射枪设计用于沉积小薄膜和/或厚薄膜。除了薄膜沉积外，MLX-3000N还提供全面的等离子体工艺，包括蚀刻、杂质吸附、清洁、表面钝化等表面处理。该机配备了先进的蚀刻控制器，可实现高质量、精密的各类材料蚀刻。此外,它还可用于光致过程,如LED和OLED设备制造。总体而言，ULVAC MLX-3000N是一种经济高效的高速溷合溅射工具，非常适合半导体和光电器件制造。它提供高速、多用途的沉积，使制造商能够生产具有最佳均匀性和质量的薄膜层。此外，其全面的等离子体处理能力使资产适合广泛的应用。