二手 ULVAC MLX-3000N #9279394 待售
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ID: 9279394
优质的: 2000
Sputtering system
Multi chamber type (C to C)
Substrate size, 6" Diameter
(2) Cassette-chambers
(2) Sputter chambers
(1) Etching chamber
Vacuum pump:
Cryo pump
Dry pump
Sputter source: Cathode 12" diameter
DC power source
Process gas: Ar
2000 vintage.
ULVAC MLX-3000N是为各种应用而设计的高性能溅射设备。利用目标驱动的串联溅射工艺在基板上沉积精确均匀的薄膜。MLX-3000N提供了控制膜厚度和化学计量的精确离子剂量能力,以及高膜均匀性和可重复性。系统使用四个电源,这些电源可0.01V增量调节,脉冲频率可调节,离子电流范围从100nA到1mA。该单元还有一个易于操作的软件平台,使用户能够根据特定沉积需求定制参数。溅射机包含360°双目标、四柱腔室,标准压力范围为0.004-2.8 Pa (30 mTorr-400 mTorr)工作温度可达100 °C。它配备了高清数字成像机构和先进的视频处理技术,以便更好地查看基板表面。ULVAC MLX-3000N支持直流和脉冲直流溅射以及反应性/高离子溅射。它还能够对高反应性溅射过程进行电弧溅射。该工具具有自动目标控制、动态腔室清洁、基板加热控制、目标保护、软件控制定时、自动基板支架张力调节、自动腔室维护等多种特点。这些特性使MLX-3000N成为许多应用的理想选择,包括用于平板显示器的氮化物、氧化物、金属和氧化氮化物的沉积、薄膜电池、传感器、光学涂层以及其他各种电子涂层需求。资产还提供了一些安全功能。ULVAC MLX-3000N的加工室和背衬磁铁采用磁屏蔽保护,免受电磁干扰,模型中包含各种安全传感器,以确保安全运行。此外,MLX-3000N还配备了先进的真空监测设备,可实时监测和显示真空系统的状况。该单元还实施了一系列自我诊断,设计用于在操作员在处理过程中检测到任何问题或潜在危险时发出警报。总体而言,ULVAC MLX-3000N是一款出色的溅射机,可为各种应用程序提供精确、可重现和统一的结果。它具有易于使用的界面、高质量的特性和安全特性,是满足许多沉积需求的理想选择。
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