二手 ULVAC MLX-3000N #9280607 待售

ULVAC MLX-3000N是一种特征堆积磁控管溅射设备，设计用于在各种基板上精确的层沉积和材料生长。该系统可用于许多应用，如薄膜沉积、闸级器件结构、介电层等。其坚固的设计允许溅射精确和均匀的薄膜厚度。MLX-3000N配备13.56 MHz单磁控管真空唯一溅射工具，能够产生较高的沉积速率和均匀的溅射沉积。该机组配备了ULVAC先进溅射电源，集成主从电源机，允许对溅射层的特性进行精细控制。开放式体系结构设计可实现与大多数腔室组件的兼容性,从而使该工具具有高度的通用性。该资产旨在以高度的灵活性和可配置性最大程度地减少气体泄漏。它有一个四环腔室TM指示四个不锈钢密封圈结构。密封件减少气体泄漏，配置性强，易于更换，维护方便。ULVAC MLX-3000N利用真空数字接口单元（VDIU）进行控制和监测,符合所有工业安全标准。大型样品锁载室水平定向，利用独特的半导体样品级进行样品处理和转移。它的四级样品冷却器允许样品和基板冷却到室温以下。该模型的高级软件套件使用户能够快速设置高精度预测溅射过程。MLX-3000N在超高压和低真空（LV）模式下运行,允许在工艺条件下进行非常高的控制,并支持具有高长宽比的复杂基板。其集成的等离子体发生器是温度控制的，使没有氮气的快速初创企业能够进行整修。所有这些特性都允许在广泛的应用中进行可靠的溅射沉积。总体而言,ULVAC MLX-3000N是一种可靠的溅射设备,非常适合精确的层沉积.该系统配置性强,易于使用,可提供可靠的溅射引脚精度。它是从薄膜沉积到栅级器件结构等各种应用的理想工具。