二手 ULVAC MPS-4000-C4 #9279708 待售

ULVAC MPS-4000-C4是一种四室大面积磁控管溅射设备.该系统由四个用液氮冷却的SDC-S250工艺室组成。这些腔室都节省了空间,并且具有小于28英寸的基板到磁控管（STM）距离。这样就能够有效地利用高功率沉积，并利用短时间沉积时间而不牺牲大面积均匀性。每个腔室的双源配置允许各种目标材料用于不同的结构配置。腔室配有低热扩散反射器，用于更高的沉积速率，不锈钢目标的低温沉积，以及大型取景器单元。该系统允许均匀、均匀的溅射，电离速率高，等离子体条件稳定，沉积速率均匀。该机还配备了多阳极电源和主控硬件。MPS-4000-C4提供了ULVAC的全自动工艺配方,可以在用户友好的控制软件上配置和优化沉积配方。此工具还具有内置的自动目标交换器,允许在一个资产中使用多个目标应用程序。该模型适用于直径可达600mm的超大样本量,可沉积金属、氧化物和氮化物等多种材料的较厚薄膜。这种设备的主要优点是能够在较低的温度范围内沉积高质量和均匀性的薄膜。低温溅射工艺有助于降低工艺成本，最大限度地减少污染。该系统还有一个自我调节模式和传感器，用于监测室内的大气，以减少污染。ULVAC MPS-4000-C4单元非常适合生产大型高质量的光学和电子涂层玻璃基板，非常适合从平板显示器到太阳能电池产品的广泛应用。该机器非常适合研发、全行业生产和专用涂层应用。