二手 ULVAC SBH-4118-C16 #293754738 待售

ULVAC SBH-4118-C16是一种高度先进的溅射设备，设计用于物理气相沉积过程，特别是半导体制造和先进的薄膜涂层。该系统提供卓越的性能、精确度和多功能性,使其成为需要严格规范的研究和生产环境的宝贵工具。SBH-4118-C16单元的关键部件是溅射室，它装有16个以圆形构型排列的阴极。这种独特的设计允许从多个目标同时沉积,从而提高吞吐量和效率。每个阴极都可以独立控制，使沉积参数如薄膜厚度、组成和均匀性得到精确调整。ULVAC SBH-4118-C16机中的溅射过程由大功率RF磁控管溅射源驱动，产生一个离子等离子体轰击目标材料，导致原子喷射并沉积到基板表面。该工具能够溅射各种材料，包括金属、氧化物、氮化物和合金，从而能够沉积具有定制特性的复杂多层薄膜。该资产具有先进的过程监控能力，包括实时沉积率监控、薄膜厚度测量和自动反馈控制算法。这些特性确保了胶片质量的一致性和可重现性，即使在长时间的沉积过程中也是如此。此外,该模型还配备了一个负载锁定机制,可以快速装载和卸载基板,最大限度地减少停机时间并提高整体生产率。SBH-4118-C16采用用户友好的软件界面设计，可对沉积过程进行直观控制，方便地访问各种工艺参数。该设备可以编程为运行预定义的沉积配方或自定义序列，使其适用于常规生产运行和研究实验。该系统还配备了一系列安全功能，包括联锁、真空监测系统和紧急关机机制，确保操作员安全，防止发生异常操作时损坏机组。该机器的设计符合洁净室兼容性的行业标准，产生的颗粒物少，污染物的排气最少。综上所述,ULVAC SBH-4118-C16溅射工具结合了先进的技术、高性能和用户友好的操作,使其成为各种薄膜沉积应用的通用工具。其独特的设计、精确的控制能力和安全特性，使其成为高品质薄膜必不可少的半导体制造、光学涂层和研究实验室的理想选择。