二手 ULVAC SCH-135 #9411089 待售
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ID: 9411089
Horizontal inline sputtering system
Electrode deposition 90 sec tact
Chamber:
Loading
Heating
Isolation
Unloading
Assembly:
Vacuum
Transfer
Internal jig
Heating
Sputtering cathode
Power supply
Frame and conveyor
System:
Pumping
Operation
Measurement
Gas inlet
Compressed air
Cooling water
Spare parts.
ULVAC SCH-135是为优化薄膜沉积而设计的高精度溅射设备。该系统非常适合在大面积上形成精确控制和均匀的薄金属、氧化物和氮化物层。SCH-135是一种先进的单端磁控管溅射装置，由高精度的基板定位器、精密的控制器和各种大小的磁溅射目标组成。ULVAC SCH-135允许沉积在比其他常规系统更高的压力下进行，并已成为工业薄膜应用的领先工具。SCH-135提供一维单向溅射，可以在从高真空（1x10-7 Pa）到超高真空（1x10-9 Pa）等多种压力下运行。来自阴极的电子向阳极加速，当它们撞击目标时，它们会导致目标原子脱离，然后沉积在基板上。这种溅射工艺具有很高的可重复性和可靠性，对厚度、成分、形状、反射率等薄膜性能提供了极好的控制。ULVAC SCH-135的控制器界面非常方便用户,可方便地设置、控制和监控薄膜多层沉积过程。它有一个庞大的预先定义的用于溅射沉积过程的配方数据库，可以方便地控制机器的程序。此外,创新的图形用户界面（GUI）使操作员能够轻松可视化沉积过程,这使SCH-135与其他溅射系统脱颖而出。ULVAC SCH-135是工业和科学领域大面积薄膜沉积应用的首选工具。广泛用于生产薄膜晶体管、光学涂层如AR涂层、介电镜、储能收集装置以及薄膜封装/钝化层。而且，它具有高精度、均匀性的薄膜层生产能力，非常适合广泛的科研应用，如薄膜材料的物理、化学、光学性质的研究。简而言之，SCH-135溅射工具是一种先进的薄膜沉积资产，能够将高精度、均匀的薄膜层沉积到大面积上，具有高度可重复、可靠的结果。它具有复杂的控制器界面和图形用户界面（GUI）,使薄膜沉积过程的设置、控制和监控极其方便用户和高效。随着ULVAC的SCH-135，薄膜在工业和科学领域的应用势头显着，是薄膜沉积中应用最广泛的溅射系统之一。
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