二手 ULVAC SDH-4550L #9313962 待售

ULVAC SDH-4550L
製造商
ULVAC
模型
SDH-4550L
ID: 9313962
优质的: 2015
Sputtering system 2015 vintage.
ULVAC SDH-4550L溅射设备是为低温半导体沉积和光学薄膜涂层等应用而设计的高性能、全自动真空沉积设备。它使用一系列先进的功能和尖端的技术来提供一致和统一质量的产品。SDH-4550L配有串联溅射沉积系统,允许多个并发溅射目标。这允许薄膜以不同的材料组合沉积。ULVAC SDH-4550L具有自动源加载和晶圆传输机制,提供了一个快速高效的生产单元.该机器能够在串联阵列中溅射多达五个目标。此溅射阵列可配置为两条独立的溅射线,用于多目标操作和多材料组合。SDH-4550L的集成计算机控制工具允许用户为每个目标选择、编程和监控各种溅射参数。ULVAC SDH-4550L还具有强大的真空疏散和评估系统,允许快速、高质量的真空循环.利用双级旋转式叶片泵,实现了快速高效的真空排空。它还包括高效的阀门系统,提供对沉积过程中底物温度和气体流动的精确控制。凭借这些优异的特点,SDH-4550L能够生产出具有高可重复性和均匀性的薄膜。此外,ULVAC SDH-4550L采用先进的射频基板偏置资产,可稳定薄膜层,改善平面内晶体结构,防止颗粒迁移。该模型还包括一个二次偏置发生器,允许最大程度的灵活性,同时调整基板偏置条件。这种特性对于生产复杂氧化物薄层特别有用。SDH-4550L溅射设备还提供先进的冷却和温度控制。该系统配有高效的水冷换热器和温度控制模块,允许在溅射过程中精确调整工艺温度。这允许用户生产更薄的薄膜,减少浪费并保持溅射层厚度的均匀性。总体而言,ULVAC SDH-4550L溅射装置是一种高效、自动化和先进的沉淀机,可提供可靠的薄膜生产。SDH-4550L具有多种溅射目标和先进的真空冷却系统,是需要高效优质沉积的理想选择。
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