二手 ULVAC SDP-850 #9379484 待售
网址复制成功！
单击可缩放
ID: 9379484
Sputtering system
(3) MITSUBISHI RH-L4B Robots
(7) ULVAC TMP3003LM Turbo pumps
(14) ULVAC Dry pumps
(9) ITO Target chambers.
ULVAC SDP-850是一种用于高精度薄膜沉积应用的溅射沉积设备.该系统将ULVAC现有的磁控管溅射技术与新集成的PI技术相结合，生产出均匀、均匀、精度高的薄膜。其领先的溅射源为极为广泛的材料提供了卓越的等离子体控制。这有助于确保即使在不同的流速和材料上也能以高精度进行一致和可靠的薄膜沉积。该单元通过触摸屏PLC进行管理和操作，为用户提供一个易于使用的界面，用于控制各种机器功能。SDP-850还在室内保持恒定的真空环境，从而提高真空沉积效率并有助于减少污染。该工具的另一个特点是采用了陶瓷封闭式船阴极，由于其密封状态，便于操作和维护。安全是ULVAC SDP-850设计中的一个重要因素，因为它是用接地连接器和各种电离器和磁屏蔽固定的，以有效保护人员和设备免受任何等离子体冲击。其双重气体控制资产提供了更高的安全性，允许同时控制低压和高压流动，同时仍然提供统一的气体分配。SDP-850以能够在最大样本量为300 mm、最大厚度为1000nm的大面积基板上进行薄膜沉积而闻名。其较大的工作区域还允许在单个过程中在同一基板上沉积多层。总体而言，ULVAC SDP-850是一种创新的溅射沉积模型，提供高精度、均匀性和安全性，以及广泛的材料和工艺尺寸。其用户友好的界面增强了其可操作性和简单性，而其先进的控制和安全系统则以最小的操作员干预确保了可靠的结果。
还没有评论