二手 ULVAC SH-450-T10 #9156843 待售

ULVAC SH-450-T10是一种用于在半导体器件制造中沉积薄膜材料的高功率直流磁控管溅射设备。它具有单个主轴和RF偏置基板电源。SH-450-T10设计紧凑,易于安装和使用。该系统采用高功率射频磁控管，可为薄膜沉积提供高达450 W的直流功率。射频磁控管溅射源是可调的，有两种独立的工作模式：线性模式和全爆破模式。在线性操作模式下，ULVAC SH-450-T10可以在较低的优化功率水平下工作，以实现均匀的薄膜厚度和可重复的性能。在全爆破模式下，该装置可实现较大面积沉积的较高沉积速率。该机还配备了脉冲模式电弧抑制工具，减少了与高功率操作相关的电弧以及增强的基板冷却资产。SH-450-T10具有射频偏差源,可降低溅射速率并改善胶片附着力。射频偏置功率具有高达400瓦的独立控制，在溅射过程中对离子通量提供极好的控制。此外，射频功率调制可用于最大程度地提高整个目标的沉积均匀性。该模型包括一个安全的数据管理设备，能够存储传入晶片的所有数据，包括沉积速率、厚度和周期时间。此数据是安全存储的,允许授权人员访问和调整各个晶片的设置。该系统还包括一个完全自动化的中央控制单元，配有预定义的配方。ULVAC SH-450-T10磁控管溅射机是一种具有优异薄膜沉积特性的大功率直流溅射工具。可调节的射频磁控管、射频偏置源和自动化的中央控制资产提供了极好的精度和重复性，而数据管理模型则允许安全的数据存储和检索。该设备具有优异的性能和可重复性,可用于大批量生产。