二手 ULVAC SIH-4545 #9055116 待售

ULVAC SIH-4545
製造商
ULVAC
模型
SIH-4545
ID: 9055116
优质的: 1988
Sputtering system 1988 vintage.
ULVAC SIH-4545是一种溅射设备,用于从各种目标沉积薄膜涂层。该系统由超高真空室、基板加热元件、强大的射频电源和溅射枪组成。使用加速气体,如Ar、Ar/O2或Ar/N2,溅射枪向目标传递高功率的离子束,导致溅射或原子释放到目标上。离子的这种轰击提供了目标材料在基质上的均匀沉积。超高真空(UHV)室设计为提供1.0x10-10 Pa至10-3 Pa范围内的基本压力水平,由连接闸阀的2级粗加工泵和涡轮分子泵机组成。HI Speed Roughing Pump提供75至110 Pa范围内的深度真空水平,而Turbo Molecular Pump则提供几mPa范围内的更高真空。这与密封室的金属密封和烘烤操作相结合,允许一个非常干净的加工环境。加热元件,通常是大功率红外灯,在加工过程中提供对基板温度的精确控制,允许一致和可重复的结果。SIH-4545的射频(RF)电源在整个溅射过程中提供可靠稳定的电源。稳定的射频功率水平,加上快速的处理速度,使得溅射机成为大型复杂基板表面的理想选择。ULVAC SIH-4545中的溅射枪提供了可调离子源。它被设计用来产生高功率、短程的撞击离子,从而允许快速和均匀的涂层沉积到基板表面上。溅射枪可调节产生的离子等离子体的直径,允许精确控制所施加的涂层厚度。离子源可以配置为DC或RF操作,DC选项适用于玻璃等低灵敏度基板,RF选项适用于硅片等更敏感的基板。SIH-4545提供了一种精确、可重复和灵活的溅射工具,用于在一系列材料上生产薄膜涂层。可调离子源,结合精确的基板加热元件和超高真空室,提供了可控清洁的加工环境,使目标材料可重复均匀地沉积到基板表面上。
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