二手 ULVAC SIV-200 #293622781 待售

ULVAC SIV-200是一种先进的溅射设备，设计用于将层的高质量薄膜沉积到基板和晶片等表面上。该系统具有多种沉积技术和工艺，包括交流磁控管溅射、直流磁控管溅射和偏置溅射。它也有多个目标，包括铝、不锈钢和金属氧化物目标。所有目标都使用无失真磁场来实现精确的溅射和均匀的涂层特性。该机组的射频发生器和先进的控制系统提供精确的精度，允许最大均匀性的高吞吐量。SIV-200溅射机能够在超高真空条件下工作，既能保证优越的无粒子沉积，又能精确控制环境溅射参数。它具有纳米直流控制、精确脉冲技术和可调射频功率到毫秒级的特点。这种精确的控制允许工具应用均匀度为1mil/disc的材料。此外，该资产利用压力控制器在沉积过程中保持稳定的压力，确保膜性能一致。ULVAC SIV-200具有较大的腔室体积,可在单个托盘上容纳多个基板,显着缩短了加工时间。SIV-200具有安装在旋转台上的高精度激光干涉仪，用于无与伦比的非接触式光学厚度测量。它还具有先进的关键基板视觉摄像机模型和晶圆检测能力，提供精确的表面分析和均匀性测量。这种先进的视觉摄像机设备可用于存款过程的实时监测和质量控制。不仅ULVAC SIV-200提供优越的沉积和精确的控制,而且便于访问.为方便维修，该室门包括一个方便进入加工室部件的升降门，使其成为研发实验室的理想选择。此外，气候控制环境最大限度地减少了定期维护的需要，从而提高了系统的可靠性和可用性。总体而言，SIV-200溅射装置是一种优越的工具，具有精确的控制和易于访问的优越溅射。其先进的特性可以实现纳米精确的直流控制、精确的脉冲技术和可调节的射频功率，以及用于关键基板和晶圆分析的高精度激光干涉仪和视觉摄影机。该工具为高通量、低维护的高精度、均匀涂层提供了最佳条件。