二手 ULVAC SIV-200S #293637679 待售

ULVAC SIV-200S是为先进的半导体器件研发而设计的单室直流磁控管溅射系统。该设备能够在包括玻璃、陶瓷和其他材料在内的一系列基材上生产沉积速率高达5Å/秒的高性能薄膜。SIV-200S具有高效的气体输送和内置的分子束线，可用于高性能材料的沉积。双端磁控管溅射构型最多支持四个阴极和两个阳极，使得样品沉积具有更大的灵活性。另外，使用独立线性可变差分变压器（LVDT）允许单独控制每个阴极上的线性偏置。该特性可用于提高基材的均匀性，降低充电效果。该系统的炉模装有一系列高温加热炉（HOTs）和热板，使其成为涂覆温度敏感材料的合适选择。热板的温度范围高达1000 °C,并配有可选的热电偶附件,可用于高度精确的温度监控。该装置包括一台先进的射频发生器，用于控制蚀刻和沉积过程中离子轰击的频率、大小和持续时间。ULVAC SIV-200S非常适合不同的实验,允许使用全功能控制软件套件调整一系列功能。这包括能够对多个任务进行编程、实时监控多达四个晶片的样品分析,以及从特定薄膜规格的一系列可用配方中进行选择。总体而言，SIV-200S是一种可靠、易于使用的机器，旨在满足先进半导体研发的要求。该工具能够支持单个阴极控制和变频射频源,使其能够产生多种薄膜效果,包括特殊的薄膜均匀性、低电荷和高沉积速率。