二手 ULVAC SIV-200S #9107294 待售

ULVAC SIV-200S是ULVAC（超精密真空技术）制造的溅射设备。它是一种超小型溅射沉积系统，设计用于在平板等大型基板上涂覆ITO、A-Si等高透明度薄膜。该装置设有2源溅射室、单源反应性溅射室和高温大气压氧化室，可同时沉积导电膜和绝缘膜。SIV-200S是一种低能耗、高吞吐量的闭环微加工机。ULVAC SIV-200S利用独特的2源磁控管溅射技术来沉积薄膜。该技术在优化离子轰击的同时，最大限度地降低了样品表面溅射颗粒的风险，以确保膜的均匀性。经高沉积率（最高50纳米/分钟）证实，溅射过程效率很高。此外,由于能够同时存放多达4个目标,因此该工具具有较高的吞吐量能力。单源反应性溅射室利用紧凑的射频磁控管沉积ITO、A-Si等氧化膜。独特的单源溅射技术能够降低污染风险，提高薄膜均匀性，将沉积速率提高到1500 nm/min。资产还能够结合清除机制，以确保最佳的离子轰击。SIV-200S还具有高温大气压力氧化室，用于沉积耐火氧化膜。这一特性允许金属氧化，使氧化速率提高4倍，同时在薄膜中保持高纯度和均匀性。总体而言，ULVAC SIV-200S溅射模型是导电膜和绝缘膜高效沉积的理想选择。其先进的技术和特点使其非常适合在大型基板上沉积高透明度薄膜等任务，使得该设备非常适合平板显示器的生产。