二手 ULVAC SIV-200S #9266436 待售

ULVAC SIV-200S是一种用于薄膜沉积的多空心阴极溅射设备。该系统旨在为金属、半导体、绝缘体等多种材料提供优越的均匀薄膜沉积。SIV-200S具有独特的两级磁控管溅射头，可在各种组件上均匀沉积薄膜。此外，该单元对于较厚的碳层和较高温度的基板是最佳的。ULVAC SIV-200S机的核心是其溷合空心阴极溅射头。头部有两门可单独操作的磁控管枪，允许目标和辅助材料的溅射。这种溷合头可以沉积具有晶体学取向控制的材料或对多种材料进行独立沉积。这两种可分别调节的阴极源均具有独立的高温端口，确保了对材料沉积的最佳控制，并为各种薄膜提供了理想的条件。除了独特的空心阴极溷合式溅射头外，SIV-200S还采用了锁载工具，可以在不影响真空质量的情况下快速方便地装卸样品。负载锁定资产可防止污染,确保一致和准确的结果。ULVAC SIV-200S还包括一个完全集成的三轴腔室。该腔室可确保基板和光源完全对齐,以实现精确溅射.完全集成的冷却模型和加热器级还提供了整个溅射过程的精确温度控制。该设备还与X射线探测器、离子计、质谱仪等一系列先进工具兼容。这些工具进一步保证了沉积过程中的准确性和准确性。总体而言，SIV-200S系统是一种先进的溅射装置，提供卓越的均匀薄膜沉积和精确的温度控制。它非常适合那些需要精确溅射的人，因为溷合式头和集成式冷却机能确保均匀性和准确性。这使得ULVAC SIV-200S各种不同薄膜沉积工艺的绝佳选择。