二手 ULVAC SIV-3545 #9279165 待售

ULVAC SIV-3545是日本ULVAC公司开发的三合一溅射设备。它由微型磁控管溅射室、电子束蒸发源和离子束蚀刻装置组成。微型磁控管溅射室铜的平均沉积速率为1.2 μ m/min，最小薄膜厚度为1.5nm。它可以在高达3000°C的温度下沉积材料，等离子体密度可以从10E15/cm3调整到10E18/cm3。电子束蒸发源可以在高达5000 °C的温度下蒸发材料，最小蒸发速率为2 μ m/min。它还采用了质量流控制器，用于精确的材料沉积。离子束蚀刻装置能够以高达400 keV和最大50mA电流的离子能量进行氮蚀刻。它还有一个自动基板传输系统，支持一系列的基板尺寸，最大基板尺寸为直径8英寸。此外，该装置还配备了一个用于过程监测的真空室，并可利用其软件进行远程操作。总体而言，SIV-3545溅射机是当前溅射技术的一个突出实例。它是一种高性能和可靠的工具，使用户能够以高速率轻松准确地沉积各种材料的薄膜，同时也让它们能够精确地控制薄膜的性能。这一资产的优越性能使其成为半导体和纳米材料薄膜沉积等应用的绝佳选择,以及先进设备制造纳米结构的生产。