二手 ULVAC SME-200E #9379717 待售
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ID: 9379717
Sputtering system
AIN-VO2
Gun:
DC Power (P3): 2Kw
DC Power (P4): 15 Kw
Pump:
Dry: P3 (VO2) / P4 (AIN)
Turbo: P3 (VO2) / P4 (AIN) / Loadlock
Vacuum gauge:
Pirani
Ion
MFC:
N2: 100 Sccm, 50 Sccm
Ar: 200 Sccm, 100 Sccm
O2: 50 Svvm, 5 Sccm
Heater:
P3: Maximum 590°C
P4: Maximum 700°C.
ULVAC SME-200E是一种用于薄膜沉积的溅射设备,用于各种应用,包括半导体加工。它利用扩展的磁增强溅射(EME),一种将电磁与溅射相结合的方法,在刚性和柔性基板上制造涂层膜。溅射涂层系统具有先进的沉积均匀性和精确度,可用于优质薄膜的生产。SME-200E具有可靠的向下射流线性目标配置。这允许精确的目标操作与三维蚀刻和能力溅射在高真空。该单元包括一个东西旋转平面,允许易于维护和改进与广泛的基板的兼容性。其闭环控制机为直径达200毫米的薄膜提供非常稳定和均匀的溅射。该工具还包括用于非接触基板操作和传输的自动加载、自动卸载资产。这样可以确保精确定位,并具有优异的生产产量。ULVAC SME-200E既包括双轴旋转阶段,以提高沉积均匀性,也包括旋转炮塔淋浴模型,以实现快速、简单的目标材料交换。新创建的沉积室保持目标和基板条件,使调试与任何类型的涂层材料。这种独特的溅射设备还具有ULVAC专用的Pay-Anime软件,用于过程操作、沉积控制和配方编程。该软件提供配方编辑、监控和分析工具,使高效、可重复的操作具有卓越的涂层均匀性。用户友好的界面确保了较高的工作效率,并减少了维护和调整的停机时间。SME-200E溅射系统是为生产优质薄膜而设计的。其卓越的技术和先进的特点确保了各种涂层可重复、均匀和精确的沉积半导体器件。
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