二手 ULVAC ULDiS-200 #9237375 待售

ULVAC ULDiS-200是一种高性能溅射设备，设计用于将薄膜材料沉积到基板上。该系统具有高达8 kW的电源、电子控制的真空室和前开门，方便访问。ULDiS-200源是由直流电源供电的射频（RF）导电耦合空心阴极单元。这种源机器产生高能电子的电离等离子体，用离子和中性粒子轰击底物，同时产生大量沉积速率。ULVAC ULDiS-200真空室由不锈钢组成，设计符合所有安全和操作要求。该腔室绝缘且热稳定，具有良好的真空特性，使该工具能够在较长的沉积时间内工作。它的数字压力读出确保了精确的压力控制，而它的前开口门允许在装载和卸载基板时方便访问。ULDiS-200能够生产一系列类型的材料，包括多晶硅、氧化硅和氮化物、氮化钛和钼。该资产还被设计为执行精确的厚度控制和均匀性，使其成为生产高达5 μ m的厚膜层的理想选择。此外，ULVAC ULDiS-200还配备了多种用于等离子体监测和温度控制的工具。该型号有广泛的配件，包括了crucibles、痕量气体和热电偶。因此，用户能够全面监测所有沉积过程。总体而言，ULDiS-200是一种可靠高效的溅射设备，能够生产优质薄膜。它具有高达8 kW的光源、电子控制的真空室和方便访问的前开门，并且经过设计以提供精确的厚度控制和均匀性。ULVAC ULDiS-200沉积时间长，材料种类繁多，配件种类繁多，非常适合生产厚薄膜和薄膜。