二手 ULVAC Z-1101 #293610445 待售

製造商
ULVAC
模型
Z-1101
ID: 293610445
晶圆大小: 6"
Sputtering system, 6" TMP Turbo pump missing.
ULVAC Z-1101是用于各种涂层应用的高效溅射设备。该系统利用高频、高功率脉冲溅射过程,利用高功率磁场产生高密度等离子体。Z-1101能够沉积各种溅射材料,包括钛、铝、不锈钢和铜。ULVAC Z-1101是一个单室、多目标溅射沉积单元,其腔室大小大约为16 "× 16" × 16"。沉积室包括一个加热的二次电子发射(SEE)穹顶、一条排气管和两个可用于晶圆传输的顶载石英盒。Z-1101机配有高密度、高功率电源模块、射频溅射发生器、自动压力控制(APC)工具和水冷装置。ULVAC Z-1101采用磁控管溅射工艺,提供高密度等离子体和优越的溅射性能。电源模块设计的高功率密度为0.5 kW/in3,均匀磁场为3.5特斯拉。射频功率在0到15kWatts之间调节,可提供最大的溅射性能和出色的覆盖范围。射频发电机配备了自动调频资产,使过程能够瞄准多种溅射材料。Z-1101的高可靠性和精确度使得它的重复和钝化结果备受追捧。其数字化显示确保了对过程参数的准确控制和监控。该模型具有强大的嵌入式控制器,用户友好界面和流程数据库,便于设备参数修改。这种溅射系统还提供了材料的均匀曝光,这可能有利于减小遮罩的尺寸和阴影效果。此外,与单目标单元相比,多目标单元可实现大面积均匀溅射的最佳覆盖。ULVAC Z-1101还提供了广泛的工艺能力,包括逐层沉积、离子辅助沉积、反应性溅射和氧化钛沉积。Z-1101是需要精密涂层应用的行业的绝佳选择,可用于汽车、显示器、电子、平板和磁性存储介质行业。这台机器能够实现较高的沉积速率,从而实现快速的生产过程和更高的吞吐量。
还没有评论